发布时间: 2022-12-14
作者：严湘芸 专利代理师
专利申请的单一性原则又称为一发明创造一申请的原则，是指一件发明专利或实用新型专利申请应当仅限于一项发明或者实用新型。根据这一原则，不能把两项以上的发明创造放到一件专利申请中提出，而应分别提出专利申请。
一、单一性的判断规则
一个发明案或实用新型案在进行专利申请时需要满足单一性，那么单一性是如何判断的呢？
专利法第31条指出，属于一个总的发明构思的两项以上的发明或实用新型，可以作为一件专利申请提出。因此，一个发明或实用新型的专利申请中要求保护的内容需要属于一个总的发明构思，即专利申请权利要求书中含有的权利要求如果属于一个总的发明构思，则判断为该发明或实用新型的专利申请满足单一性。
总的发明构思具体为在技术上相互关联，包含一个或多个相同或相应的特定技术特征，其中，特定技术特征是指每一项发明或实用新型作为整体，对现有技术作出贡献的技术特征。
二、符合单一性要求的主要原因
1、经济上的原因：为了防止申请人只支付一件专利的费用而获得几项不同发明或者实用新型专利的保护。
2、技术上的原因：为了便于专利申请的分类、检索和审查。
三、单一性的处理方式
1、新申请阶段
基于专利法以及专利审查指南中对单一性的释义及规定，笔者认为在进行专利申请文件撰写时为了保证撰写的申请文件满足单一性，可以采用下述的撰写流程：
（1）明确技术交底书所包含的技术方案
同一技术交底书中可能含有多个不同的技术方案，例如技术交底书中同时含有“图像识别模型的训练方法”和“利用训练完成的图像识别模型进行图像识别的方法”两个技术方案；又例如技术交底书中同时含有“一种含有特征A的电路”、“一种含有特征B的电路”和“一种同时含有特征A和特征B的电路”三个技术方案。
（2）明确每个技术方案中含有的特定技术特征
由专利审查指南可知，特定技术特征是对现有技术作出贡献的技术特征，即是现有技术没有公开，且对本领域技术人员而言不是显而易见的技术特征，简单来说，特定技术特征就是技术方案的“发明点”。
因此，需要代理人进行现有技术检索后，明确技术交底书中每个技术方案中含有的特定技术特征。
（3）对比每个技术方案的特定技术特征，确定权利要求的布局
对每个技术方案包含的特定技术特征进行对比，以确定技术方案之间是否存在一个或多个相同或相应的特定技术特征。假设两个技术方案的技术特征满足“相同或相应”的要求，且该技术特征又是“特定技术特征”，那么具有该技术特征的两个技术方案是具备单一性的，否则具有该技术特征的两个技术方案是不具备单一性的。
示例1，技术交底书中同时含有技术方案1“图像识别模型的训练方法”和技术方案2“利用训练完成的图像识别模型进行图像识别的方法”，技术方案1和技术方案2对应的发明点均在于“图像识别模型对图像进行编码的具体实施方式”，则表明技术交底书中含有的技术方案1和技术方案2存在至少一个相同的特定技术特征。因此，笔者认为在专利申请文件撰写时针对技术方案1 可以布局一套权利要求，针对技术方案2可以布局一套权利要求，其中这两套权利要求的独立权利要求均含有“图像识别模型对图像进行编码的具体实施方式”，进而这样布局的两套权利要求之间是满足单一性的。
另外，由于技术方案1是模型的训练过程，技术方案2是模型的应用过程。因此，除了对技术方案1和技术方案2分别部署两套权利要求之外，还可以将技术方案1或技术方案2中的任意一个技术方案作为独立权利要求，将另外一个技术方案作为该独立权利要求的从属权利要求。
示例2，技术交底书中同时含有技术方案3“一种含有特征A的电子设备”、技术方案4“一种含有特征B的电路”和技术方案5“一种同时含有特征A和特征B的电路”，发明点在于“含有特征A或特征B的电路”；其中：
技术方案3与技术方案5存在一个相同的特定技术特征，即特征A，因此，笔者认为在专利申请文件撰写时针对技术方案3 可以布局一套权利要求，针对技术方案5可以布局一套权利要求，其中这两套权利要求的独立权利要求均含有“特征A”，进而这样布局的两套权利要求之间是满足单一性的；
技术方案4与技术方案5存在一个相同的特定技术特征，即特征B，因此，笔者认为在专利申请文件撰写时针对技术方案4可以布局一套权利要求，针对技术方案5可以布局一套权利要求，其中这两套权利要求的独立权利要求均含有“特征B”，进而这样布局的两套权利要求之间是满足单一性的；
但是技术方案3的特定技术特征为特征A，技术方案4的特定技术特征为特征B，所以技术方案3与技术方案4之间不存在相同或相应的特定技术特征，这时可以分为两种情况：
情况一：特征A与特征B之间不可以同时存在。
例如，可以实现指定功能的电路结构由第一电路模块和第二电路模块组成，特征A为“采用第一连接方式得到的第一电路模块”，特征B为“采用第二连接方式得到的第一电路模块”。由于在这种情况下，特征A与特征B之间不可以同时存在，因此，特征A对应的技术方案与特征B对应的技术方案不可以布局在同一专利申请中，而需要将特征A对应的技术方案和特征B对应的技术方案分别布局在不同专利申请中。
情况二：特征A与特征B之间可以同时存在。
例如，可以实现指定功能的电路结构由第一电路模块和第二电路模块组成，特征A为“采用第一连接方式得到的第一电路模块”，特征B为“第二电路模块的控制方法”。由于在这种情况下，特征A与特征B之间可以同时存在，因此，特征A对应的技术方案与特征B对应的技术方案可以布局在同一专利申请中，具体地，将特征A或特征B中的任意一个对应的技术方案作为独立权利要求，将另外一个对应的技术方案作为该独立权利要求的从属权利要求。同时，特征A对应的技术方案和特征B对应的技术方案也可以分别布局在不同专利申请中。
需要注意的是，在前文中所提到的布局在同一专利申请中，审查员在对专利申请的单一性进行审查时，是判断实质上的独立权利要求之间是否存在单一性。例如，独立权利要求1为：“含有特征A的电路”，在后的另一个权利要求为：“根据权利要求1所述的电路，其特征在于用特征B代替特征A”，在这种情况下，后一权利要求虽然形式上是权1的从属权利要求，但其实质上仍是独立权利要求。
2、答复阶段
若在专利申请的审查阶段接收到审查员提出的专利申请不满足单一性的问题，可以采取下述的答复策略：
（1）陈述各个独立权利要求之间至少存在一个相同或相应的特定技术特征。例如，表明各个独立权利要求之间存在“相同或相应的技术特征”，并且该“相同或相应的技术特征”相对现有技术来说是存在创造性的。
（2）对不具备单一性的独立权利要求进行修改，使得修改后的各个独立权利要求之间至少存在一个特定技术特征。例如，向各个独立权利要求分别添加至少一个相同或相应的特定技术特征。
（3）对具备单一性的独立权利要求进行保留，对不具备单一性的独立权利要求进行删除。
（4）对具备单一性的独立权利要求进行保留，将不具备单一性的独立权利要求修改为具备单一性的独立权利要求的从权。
（5）对具备单一性的独立权利要求进行保留，对不具备单一性的独立权利要求进行分案处理。
四、小结
虽然单一性缺陷一般可以在答复阶段通过修改或分案进行克服，但是会在一定程度上延长专利授权时长，因此，为了加快专利授权，最好是在新申请阶段便避免出现单一性缺陷。当然，在新申请阶段过程中对两个以上的技术方案进行权利要求布局时，不仅仅需要考虑这些技术方案之间的单一性，还需要考虑权利要求的保护范围、客户的意见等，具体可以根据实际情况进行灵活调整。
